蒸鍍?cè)O(shè)備 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供雙腔室超高真空雙傾角蒸鍍PVD系統(tǒng)的參數(shù),、價(jià)格,、型號(hào)、原理等信息,，產(chǎn)地為福建,、品牌為韞茂,，型號(hào)為QBT-E，價(jià)格為150萬(wàn)-200萬(wàn)...
雙腔室超高真空雙傾角蒸鍍系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供雙腔室超高真空雙傾角蒸鍍系統(tǒng)的參數(shù),、價(jià)格,、型號(hào)、原理等信息,，產(chǎn)地為福建,、品牌為韞茂，型號(hào)為QBT-E,，價(jià)格為150萬(wàn)-200萬(wàn)RMB...
電子束蒸發(fā)鍍膜廠家 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供電子束蒸發(fā)鍍膜廠家的參數(shù),、價(jià)格、型號(hào),、原理等信息,，產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂,，型號(hào)為QBT-E,，價(jià)格為150萬(wàn)-200萬(wàn)RMB，更多相關(guān)...
約瑟夫森結(jié)鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供約瑟夫森結(jié)鍍膜設(shè)備的參數(shù),、價(jià)格,、型號(hào)、原理等信息，產(chǎn)地為福建,、品牌為韞茂,，型號(hào)為QBT-E，價(jià)格為150萬(wàn)-200萬(wàn)RMB,，更多相關(guān)...
超高真空鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
超高真空鍍膜設(shè)備系統(tǒng)專業(yè)制備約瑟夫森結(jié)制備,，可精確生長(zhǎng)所需的金屬層和氧化絕緣層，確保高性能制備及高成品率,。
量子鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供QBT-I 量子鍍膜設(shè)備的參數(shù),、價(jià)格、型號(hào),、原理等信息,，QBT-I 產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂,，型號(hào)為QBT-I ,，價(jià)格為150萬(wàn)-20...
雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)QBT-P配備進(jìn)樣室及濺射腔室，濺射室配備離子刻蝕功能,，腔室內(nèi)配備超高真空傳輸,，設(shè)備真空度≤3E-9Torr，基板加熱900℃,，可制備...
磁控濺射鍍膜機(jī)廠家 參考價(jià)：面議
磁控濺射鍍膜機(jī)廠家在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng),。當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽(yáng)極,，而是在正交電磁場(chǎng)作用下作來(lái)回振蕩...
PEALD 參考價(jià)：面議
雙腔室高真空等離子體PEALD系統(tǒng)是對(duì)ALD技術(shù)的擴(kuò)展,，通過(guò)等離子體的引入，產(chǎn)生大量活性自由基,，增強(qiáng)了前驅(qū)體物質(zhì)的反應(yīng)活性,，從而拓展了ALD對(duì)前驅(qū)源的選擇范圍和...
雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
廈門韞茂科技有限公司為您提供QBT-I 雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)的參數(shù)、價(jià)格,、型號(hào),、原理等信息，QBT-I 產(chǎn)地為福建,、品牌為韞茂，型號(hào)為QBT-I ,，價(jià)格為1...
雙腔室超高真空雙磁控測(cè)射系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
雙腔室超高真空雙磁控測(cè)射系統(tǒng)在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng),。當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽(yáng)極,，而是在正交電磁場(chǎng)作用下...
全自動(dòng)四腔超高真空雙傾角鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)四腔超高真空雙傾角鍍膜系統(tǒng)專專業(yè)制備約瑟夫森結(jié)制備,，可精確生長(zhǎng)所需的金屬層和氧化絕緣層，確保高性能制備及高成品率。
雙腔室高真空等離子體ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
雙腔室高真空等離子體ALD系統(tǒng)是對(duì)ALD技術(shù)的擴(kuò)展,，通過(guò)等離子體的引入,，產(chǎn)生大量活性自由基，增強(qiáng)了前驅(qū)體物質(zhì)的反應(yīng)活性,，從而拓展了ALD對(duì)前驅(qū)源的選擇范圍和應(yīng)用...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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